CN
我们的业务
研发
不止于经验，以持续研发打造更精密、更高效的工艺技术。
基于等离子体的核心工艺技术
微细电路图形精密刻蚀大面积显示干法刻蚀设备领域的卓越技术实力
为何选择INVENIA
凭借经过验证的经验，作为技术伙伴与您携手，创造更稳定的成果。
220+
Dry Etcher System 交付数量
丰富的供货业绩
~10.5G
最大基板规格
适应下一代大尺寸基板
高良率
稳定的工艺性能
经过验证的工艺稳定性
全球
全球领先显示客户
与全球客户的合作伙伴关系
基于等离子体的核心工艺技术微细电路图形精密刻蚀